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日本sanmei纳米压印设备ImpFlex Essential

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更新日期:2024-03-22

简要描述:

日本sanmei纳米压印设备ImpFlex Essential
纳米压印光刻作为下一代微细加工技术受到关注,它 比传统光刻具有更高的小型化、更低的成本和更高的产量。

日本sanmei纳米压印设备ImpFlex Essential
动力类型电动布局形式其他

日本sanmei纳米压印设备ImpFlex Essential

低价UV纳米压印设备ImpFlex Essential


纳米压印光刻作为下一代微细加工技术受到关注,它 比传统光刻具有更高的小型化、更低的成本和更高的产量。
该设备是在型号 ImpFlex 基础上*降低成本的低价型号。
以低廉的价格实现低残膜和均匀膜厚的压印引擎,继承自上层。

1. 搭载ImpFlex通用的压印引擎,残膜少,膜厚均匀性高!
2. *降低成本,实现低价!
3.支持消泡气工艺!
4.兼容各种模具!
5. 丰富的选项可以升级!

日本sanmei纳米压印设备ImpFlex Essential

纳米压印光刻作为下一代微细加工技术受到关注,它 比传统光刻具有更高的小型化、更低的成本和更高的产量。
该设备是在型号 ImpFlex 基础上*降低成本的低价型号。
以低廉的价格实现低残膜和均匀膜厚的压印引擎,继承自上层。

1. 搭载ImpFlex通用的压印引擎,残膜少,膜厚均匀性高!
2. *降低成本,实现低价!
3.支持消泡气工艺!
4.兼容各种模具!
5. 丰富的选项可以升级!

特征

1.实现高精度结构转移


数据库校正后停止位置和位置偏移
具有*并联机构的“软载物台"实现了精细的转印操作,可最大限度地减少转印缺陷和纳米级图案形成。此外,新开发的 LED 光源可实现均匀的紫外线照射,并实现低边缘粗糙度。


2.支持消泡气工艺


消泡气体工艺与大气工艺的比较
该设备与消泡气体工艺兼容(可选)。
即使在大气印记中,气泡消除气体工艺也可以抑制气泡缺陷的发生。

3.兼容各种模具


模具尺寸 □ 可以从 10 mm 转移到最大 90 mm。
除石英外,还可以选择使用其他材料,例如电铸镍。



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