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日本engis小型高压抛光机EJW-460I-CMP

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更新日期:2024-06-15

简要描述:

日本engis小型高压抛光机EJW-460I-CMP
台式和固定式研磨机的设计尺寸非常适合创建从实验室规模到生产规模的高度灵活的抛光工艺。

日本engis小型高压抛光机EJW-460I-CMP
品牌其他品牌电源电压其他
空载转速1回转数1

日本engis小型高压抛光机EJW-460I-CMP

台式和固定式研磨机的设计尺寸非常适合创建从实验室规模到生产规模的高度灵活的抛光工艺。
采用特别适合高压抛光的高刚性机身和开发的水冷主轴,使抛光垫表面温度始终保持恒定,并提供高旋转精度和很少的振动。

设备规格

型号:EJW-460I-CMP

日本engis小型高压抛光机EJW-460I-CMP

机械模型EJ-300-CMPEJ-380-CMPEJW-380I-CMPEJW-460-CMP
标准平台尺寸(⌀外径×⌀内径mm)300×100380x140460x180
戒指尺寸(⌀外径 x ⌀内径 mm)143x108178x140220x182
粘贴板尺寸(mm)107138180
主轴电机(千瓦)0.41.52.2
水冷机构

标准轴数/搭载加压气缸机构滚轮臂 x 3 轴回转强制驱动驱动 x 2 轴
电源三相AC200V 50/60Hz
机身尺寸(宽 x 深 x 高毫米)550×780×410800×800×1,9001,200×1,300×1,900
重量(公斤净重)958001,000

*EJ-300/380-CMP 为桌面型。



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