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日本dip coater膜厚计AFW-100W

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更新日期:2021-10-12

简要描述:

日本dip coater膜厚计AFW-100W
推荐使用反射光谱膜厚计用于膜厚测量应用,例如硬涂层。

日本dip coater膜厚计AFW-100W
类型数字式测量范围1

日本dip coater膜厚计AFW-100W

使用反射光谱膜厚计用于膜厚测量应用,例如硬涂层。

[机理] 当
样品受到光照射时,它会根据膜厚显示出独特的光谱。薄膜表面反射的光与穿过薄膜并在基板表面反射的光相互干扰。当光的相位匹配时,强度增加,而当光相移时,强度降低。反射计是一种通过分析该光谱来测量薄膜厚度的方法。

[优点] -
与 SEM 和触针式轮廓仪不同,无需接触即可进行测量。
- 与椭偏仪相比,便宜且易于使用。

将来也可以安装在量产设备中。

日本dip coater膜厚计AFW-100W

模型AFW-100W
对于一般膜厚
设备配置单元主体、测量台、2 分支光纤 (1.5m)、PC
测量波长范围380-1050nm
膜厚测量范围100nm~1μm(曲线拟合法)
1 μm 至 60 μm (FFT)
测量再现性0.2%-1%(视胶片质量而定)
测量光斑直径约7mm
光源12V-50W卤素灯
测量理论曲线拟合法/FFT法
外形尺寸 (mm)测量台:W150 x D150 x H115
机身:W230 x D230 x H135
大约重量5.5kg * 不包括 PC
公用事业AC100V 50 / 60Hz
轰天猛将卤素灯


显微分光膜厚仪

通过使用显微镜,可以测量具有过去无法测量的不规则性的电子元件和曲面透镜。

它测量相对于透镜曲率的微小区域并抑制散射光以进行测量。 它可以针对晶片图案和电子元件的不均匀性测量微小区域,抑制散射光并实现测量。
姓名显微分光膜厚仪
设备配置显微镜、单元主体、光纤 (1m)、PC
显微镜奥林巴斯金相显微镜
测量波长范围380-700nm
膜厚测量范围50nm-1.5μm (C/F)
1.5 μm 至 50 μm (FFT)
测量再现性0.2%-1%(视胶片质量而定)
测量光斑直径Φ6 μm 至 Φ120 μm
光源12V-100W卤素灯
测量理论曲线拟合法/FFT法
外形尺寸 (mm)显微镜:W317.5 x D602 x H480
机身:W230 x D230 x H135
大约重量25kg * 不包括 PC
公用事业AC100V 50 / 60Hz
轰天猛将卤素灯


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