日本CCS 165-SHU超高高压汞灯光源在半导体行业的应用与技术优势

发布日期：2025-06-30      浏览次数：13

1. 产品概述

日本CCS 165-SHU 是一款高性能超高压汞灯光源，采用165W直流供电设计，具备3800mW/cm²的超高紫外辐射强度，广泛应用于半导体制造、光刻工艺、UV固化及精密检测等领域138。其核心优势包括：

• 200atm超高压汞灯，短弧长仅1mm，可实现高精度聚焦，满足半导体光刻的高分辨率需求。

• 宽光谱输出（315-420nm），主峰波长365nm，适配多种光刻胶及光敏材料。

• 强制风冷散热+热断路器保护，确保长时间稳定运行，适用于高负荷生产环境。

2. 在半导体行业的核心应用

（1）光刻工艺

• 高精度曝光：165-SHU的短弧设计配合高反射光学系统，可实现微米级光刻图形化，适用于芯片制造、掩模版曝光及晶圆级封装。

• 替代部分DUV光源：相比深紫外光（DUV）设备，高压汞灯光源成本更低，技术成熟，适用于中低端光刻及科研级半导体实验。

（2）UV固化与封装

• 芯片封装固化：用于环氧树脂、光敏胶的快速固化，提升封装效率（如Flip-Chip、BGA封装）。

• PCB防焊层处理：高能量UV辐射可固化阻焊油墨，确保电路板绝缘性与耐腐蚀性。

（3）缺陷检测与质量控制

• 晶圆表面检测：通过紫外荧光激发，识别晶圆表面的微裂纹、污染颗粒及光刻胶残留。

• 掩模版清洁度检查：利用365nm紫外光增强缺陷对比度，提高检测精度。

3. 技术优势对比

特性	CCS 165-SHU	传统汞灯	EUV/DUV光源
辐射强度	3800mW/cm²（@365nm）	通常＜2000mW/cm²	更高（但成本昂贵）
光谱范围	315-420nm（宽光谱）	窄光谱	极窄（13.5nm EUV）
适用工艺	光刻、固化、检测	基础曝光、照明	芯片制程
成本效益	高（设备与维护成本低）	低	高

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4. 行业发展趋势与165-SHU的定位

• 中低端光刻市场：在成熟制程（如LED、MEMS、功率器件）中，高压汞灯仍占据重要地位，165-SHU凭借高稳定性和低运营成本成为优选。

• 科研与原型开发：高校及研究所利用其宽光谱特性，进行光化学改性、纳米材料光刻等实验。

• 自动化集成：支持外部控制接口，可适配半导体产线的自动化曝光与检测系统。

5. 结论

日本CCS 165-SHU 凭借高能量密度、精准聚焦及长寿命设计，在半导体行业的中端光刻、封装固化和缺陷检测中展现出显著优势。尽管EUV/DUV技术主导先进制程，但高压汞灯在成本敏感型应用和科研领域仍不可替代。对于需要平衡性能与预算的半导体企业，165-SHU是高效可靠的紫外光源解决方案。