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在半导体、显示面板及精密电子制造领域，静电积累可能导致产品良率下降、设备故障甚至元器件损坏。传统的电晕放电式离子发生器虽广泛应用，但其固有的臭氧排放、颗粒污染和气流干扰问题，使其难以满足制造环境的需求。日本Motoyama公司推出的SXN系列软X射线照射式离子发生器，采用创新的光电离技术，提供了更高效、更洁净的静电消除解决方案。
SXN系列的核心技术在于利用3-15keV的软X射线照射目标区域，使空气分子（N₂、O₂等）发生光电离效应，直接生成等量的正负离子（⊕/⊖）。相较于传统的电晕放电技术，该方式具有以下优势：
无放电电极：避免电极氧化、颗粒粘附及火花放电风险，适用于Class 1及以上无尘环境。
离子平衡性佳：正负离子比例严格均衡（±0V），消除反向充电问题。
无附加污染：不产生臭氧（O₃）、氮氧化物（NOx）或电磁干扰（EMI），符合半导体制造的高洁净要求。
无颗粒释放，避免污染晶圆、OLED面板等敏感基材。
零臭氧排放，适合光刻、真空镀膜等对化学污染敏感的工艺。
传统离子风机依赖气流输送离子，可能吹动薄膜、粉末或微米级元件。
SXN系列无需风扇，通过X射线直接电离目标区域空气，特别适合柔性显示面板（OLED）、MEMS器件等精密制造。
可在1秒内将±10kV静电衰减至±100V以下，速度较传统电晕式快3-5倍。
适用于高速晶圆传输、自动光学检测（AOI）等动态制程。
无电极清洁需求，仅需在X射线管寿命（通常≥3年）到期时更换，大幅降低停机时间。
设备内置异常警报系统（如辐射源故障、系统错误），支持预测性维护。
模块化结构（最小头部单元φ40×60mm），可嵌入机械臂、真空腔体或狭小生产线空间。
| 指标 | SXN-104V | 传统电晕式离子风机 | 优势 |
|---|---|---|---|
| 离子生成方式 | 软X射线光电离 | 高压电晕放电 | 无电极污染 |
| 臭氧产生 | 0 ppm | 0.1~1 ppm | 100%洁净 |
| 静电消除速度 | ±10kV→±100V（<1s） | ±10kV→±100V（3~5s） | 快3-5倍 |
| 维护需求 | 仅X射线管更换（≥3年） | 每周电极清洁 | 减少90%维护 |
| 适用环境 | Class 1无尘室 | Class 1000以上 | 更高洁净度兼容 |
前道工艺：在光刻、蚀刻、离子注入过程中消除晶圆静电，防止颗粒吸附及电路损伤。
封装测试：避免ESD（静电放电）导致芯片微短路或可靠性下降。
玻璃基板搬运、偏光片贴合时消除静电，减少灰尘吸附造成的亮点缺陷。
柔性OLED制程中，无气流设计确保薄膜材料无位移。
电容、MLCC（多层陶瓷电容）生产时，防止静电击穿介电层。
晶圆级封装（WLP）中的高精度贴装需求。
SXN系列通过软X射线电离技术，重新定义了静电消除的标准，尤其适用于3D NAND、Micro LED、先进封装等新兴技术领域。未来，随着X射线源微型化及AI动态调控技术的发展，该技术有望进一步拓展至生物芯片、量子器件等更精密的制造场景。
Motoyama SXN系列离子发生器凭借其0污染、无气流干扰、超高速度与超低维护的特性，已成为制造业静电控制的解决方案。对于追求良率与制程稳定性的企业，该产品不仅是技术升级的选择，更是迈向“0缺陷制造"的关键助力。
