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日本Shinkuu磁控离子溅射仪选型指南

  • 发布日期:2025-07-16      浏览次数:19
    • 磁控离子溅射仪是电子显微镜(SEM/TEM)样品制备、半导体检测及材料研究的关键设备。日本Shinkuu(真空)系列溅射仪凭借高精度镀膜、多样化靶材支持以及不同型号适配各类应用场景,成为科研和工业领域的优选。以下为选型关键要点及推荐型号:

      一、选型核心考量因素

      1. 观察倍率需求

        • 低倍率(1,000~10,000倍):Au靶(金)或Au-Pd(金钯)镀膜,适用于常规SEM观察。

        • 中高倍率(10,000~100,000倍):Pt(铂)或Pt-Pd(铂钯)镀膜,颗粒更细,成像更清晰。

        • 超高倍率(100,000倍以上):W(钨)靶,粒径极细,适用于纳米级分辨率观察。

      2. 样品类型与尺寸

        • 小型样品(SEM/TEM):MSP-mini或MSP-1S,适用于φ30mm以下样品。

        • 4英寸晶圆或大尺寸样品:MSP-20MT(4英寸)或MSP-200in/MSP-300in(8/12英寸晶圆)。

        • 复杂结构样品(如生物样本):需考虑Os(锇)镀膜机,因其优异的环绕性。

      3. 自动化与操作便捷性

        • 一键式操作:MSP-mini、MSP-1S适合快速镀膜需求。

        • 全自动功能:MSP-20UM(可编程自动镀膜)、MSP-40T(涡轮泵高真空自动沉积)。

      4. 真空系统与冷却方式

        • 基础实验室:内置旋转泵(MSP-1S)。

        • 高真空需求:涡轮分子泵(MSP-40T)。

        • 防止样品热损伤:风冷磁控靶(MSP-20TK)。

      二、推荐型号及适用场景

      型号关键特点适用场景推荐靶材
      MSP-mini超小型设计,一键操作,低成本运行光学显微镜(Ag)、台式SEM预处理Au(标准)、Ag(可选)35
      MSP-1S内置旋转泵,紧凑型,适合贵金属镀膜SEM样品(50,000倍以下)Pt、Au、Au-Pd2
      MSP-20UM可调参数,倾斜旋转样品台,全自动镀膜复杂形状样品、高精度SEM观察Pt、Pt-Pd、W1
      MSP-20TK专为钨溅射优化,支持超高分辨率SEM(100,000倍以上)纳米材料、高分辨电镜样品W(钨)1
      MSP-200in8英寸晶圆镀膜,提高检测效率半导体制造、大面积样品Au、Pt、ITO1
      MSP-300in12英寸晶圆镀膜,工业级应用集成电路(IC)检测多种金属靶材1
      MSP-40T高性能实验室沉积,支持多种金属(Ti、Al、ITO等),涡轮泵高真前沿研究、高纯度薄膜多金属可选4

      三、选型总结

      • 实验室常规SEM样品:MSP-1S(性价比高)或MSP-20UM(功能全面)。

      • 超高分辨率观察:MSP-20TK(钨靶)或MSP-40T(多金属支持)。

      • 半导体/晶圆镀膜:MSP-200in(8英寸)或MSP-300in(12英寸)。

      • 快速简易操作:MSP-mini(超小型,一键镀膜)。


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