
尺寸 / 重量:W200×D350×H345 mm,约 14.6 kg,桌面式、内置真空泵。
真空系统:内置 10 L/min 旋转泵,极限真空约 2 Pa,工作真空 6–10 Pa(氩气)。
样品仓:内径 120 mm× 高 65 mm,硬质玻璃;样品台 φ50 mm,浮动式(与阳极分离)。
靶材规格:φ51 mm× 厚 0.1 mm(Ag 为 0.5 mm),磁控管电极(永磁体内置)。
电源:AC100 V,10 A;工作电压约 500 V,低压磁控,减少样品损伤。
真空腔充氩气,高压电场使氩气电离为 Ar⁺。
Ar⁺在电场加速下轰击金属靶材,靶原子被溅出。
靶原子沉积在样品表面,形成 5–50 nm 厚均匀金属膜,消除荷电、增强二次电子信号。
浮动样品台:电流不流经样品,升温小,保护热敏感样品(如生物、高分子)。
低压磁控:500 V 级电压、6–8 Pa 气压,膜层致密(均匀性≤10%)、颗粒细,适合高倍 SEM。
一键全自动:抽真空→溅射→充气全流程自动,1–5 分钟完成镀膜,新手易用。



特点:导电性好、膜连续、抗氧化、颗粒中等(20–30 nm),成本均衡。
适用:绝大多数常规 SEM 样品(高分子、陶瓷、粉末、生物样品),10,000–30,000 倍观察。
特点:导电性最1优、二次电子产率高、颗粒粗(30–50 nm)、易团聚。
适用:低倍(≤10,000×)快速观察、导电要求高的样品;不适合高分辨率或多孔样品。
特点:颗粒最细(10–20 nm)、膜致密稳定、抗氧化强、成本高。
适用:高分辨率 FE-SEM(≤50,000×)、EBSD 分析、纳米结构 / 薄膜 / 生物样品高倍成像。
特点:颗粒细(15–25 nm)、导电性与稳定性平衡、成本低于纯 Pt。
适用:中高倍(20,000–40,000×)、兼顾分辨率与成本的科研场景。
特点:导电性高、沉积快、极易氧化,需低真空 / 氩气保护保存。
适用:短期高导电需求、非氧化环境样品;不用于长期存放或高湿环境。
| 应用场景 | 推荐靶材 | 关键理由 |
|---|---|---|
| 常规 SEM(10k–30k×)、通用样品 | Au-Pd(标配) | 均衡导电 / 成像 / 成本 |
| 高倍 FE-SEM(≤50k×)、EBSD | Pt / Pt-Pd | 细颗粒、致密膜、高分辨率 |
| 低倍快速筛查、高导电需求 | Au | 高导电、沉积快 |
| 短期高导电、非氧化环境 | Ag | 高导电、成本低 |
| 生物 / 高分子(热敏感) | Pt / Au-Pd | 低损伤、膜均匀 |
低压磁控 + 浮动台:与 Pt/Pt-Pd 靶材适配,实现低损伤 + 细颗粒,适合生物 / 纳米样品高倍成像。
多靶材兼容:一台设备覆盖从低倍质检到高倍科研的全场景,性价比高。
靶材规格统一:φ51 mm 快换设计,切换便捷,减少停机时间。
非超高真空:工作真空 6–10 Pa,靶材颗粒(10–50 nm),不支持≤100k× 的超高分辨率 FE-SEM(需 3–5 nm 颗粒,如 Cressington 208HR)。
无反应溅射:仅支持贵金属单质 / 合金,不能沉积氧化物、氮化物等功能膜。