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当半导体制造迈入7nm乃至2nm时代，光刻机、EUV设备的调平精度已成为决定良率的生死线。焦平面偏移、套刻偏差——这些困扰Fab工程师的核心痛点，根源往往在于晶圆载台、光路基座那难以察觉的微米级倾斜。
SEM SELN-001B双轴电子水平仪，正是为此而生。
在先进制程产线上，±0.001°的调平阈值是硬性门槛。SELN-001B的X/Y轴精度达到±0.001°（17.5μm/m），分辨率高达0.0002°，刚好匹配7nm–2nm光刻机、EUV设备的调平规格要求。它能精准捕捉晶圆载台、光路基座的微米级倾斜，从根本上解决因调平不足导致的焦平面偏移和套刻偏差问题，为先进制程良率保驾护航。
光刻腔体、刻蚀真空腔、涂胶机内部夹层——这些密闭狭窄空间，传统水平仪难以涉足。SELN-001B采用Φ50×19mm超薄圆盘探头，仅70g不锈钢防静电底座，可轻松伸入设备腔体深处作业。
更值得一提的是其2米有线分离式主机设计。工程师无需俯身进入洁净腔体，在无尘室外即可手持屏幕，可视化完成调平操作。这不仅保障了人员安全，更避免了人员进出洁净室带来的污染风险。
告别传统水泡水平仪的单轴反复校准和人工肉眼判读误差。SELN-001B支持XY双轴实时数值显示，配合靶心气泡可视化引导，调平状态一目了然。设备可预设合格公差阈值，到达设定精度后自动声光提示。即便新人操作，也能标准化完成调平作业，大幅缩短设备装机、点检工时，无尘室综合效率提升50%以上。
Fab环境从来不是温室。-10℃~+50℃宽温域设计，内置振动滤波与电磁干扰抑制算法，确保在恒温恒湿空调、真空泵强振动、射频等离子电磁干扰等复杂工况下，读数依然稳定可靠。探头不锈钢底座具备防静电特性，严格符合Class1000无尘室使用规范，不引入额外污染风险。
SELN-001B搭载日本SEM坂本电机原厂传感器，零点重复性表现优异，品质经得起时间考验。对比欧美高1端水平仪，它在保持同等精度的同时具备更高性价比，且完1美兼容日系半导体设备校准习惯——佳能、尼康光刻机，TEL刻蚀机，Screen涂胶机等设备原厂调平需求，SELN-001B都能无缝适配。
在先进制程的赛道上，调平精度不容妥协。SEM SELN-001B，以日式精密工艺、半导体专属设计，助力每一片晶圆的极1致良率。
