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在真空蒸镀与光学镀膜工艺中，真空度的精确测量与控制直接决定薄膜的纯度、附着力与光学性能。从抽真空初期的粗真空，到镀膜过程中的高真空，再到可能涉及的超高真空环境，传统方案往往需要多台真空计切换使用，不仅增加设备成本，也带来配线复杂、切换操作繁琐等问题。东京电子（TOEL）推出的 CC-10 复合真空计，正是针对这一痛点设计的宽量程一体化解决方案。
真空蒸镀与光学镀膜通常涉及以下真空区间：
粗抽阶段：从大气压抽至 1Pa 左右，需要精确监测压力下降过程；
高真空阶段：1Pa 至 10⁻⁵Pa，是蒸镀与镀膜的主要工作区间；
超高真空阶段：部分精密光学镀膜或特殊工艺可能要求 10⁻⁷Pa 级别。
传统做法是分别配置晶体规（用于粗真空）和冷阴极规或离子规（用于高真空），再搭配独立的控制器。这种方式存在三个明显问题：设备成本高、占用空间大、切换操作复杂。CC-10 的设计逻辑，正是用一台设备覆盖全部区间。
CC-10 的测量范围为 1.0×10⁻⁷Pa ～ 1.0×10⁵Pa，横跨12个数量级。其内部集成晶体规与冷阴极规：大气压至1Pa由晶体规负责，1Pa至10⁻⁷Pa由冷阴极规接管，两者自动切换，无需人工干预。
对镀膜工艺而言，这意味着从抽真空开始到镀膜完成，操作人员可以在同一台设备上连续观察压力变化，无需在不同真空计之间切换或等待切换稳定。这对于需要精确控制抽气速率和镀膜起镀点的工艺尤为重要。
许多镀膜设备在粗抽阶段需要准确判断压力是否已达到某一阈值（例如是否可以开启高真空阀）。CC-10 采用的晶体规能够直接检测大气压，在粗真空区域提供可靠读数，避免因粗抽阶段测量不准而导致的阀门误操作或抽气效率下降。
CC-10 将传感器、电路部、显示屏集成于一体，属于变送器型真空计，无需单独的控制器。对于镀膜设备制造商而言，这意味着：
电控柜内不再需要为真空计控制器预留空间；
传感器与控制器之间的配线大幅减少；
设备整体设计更紧凑，尤其适合多腔体镀膜产线。
页面明确将“省配线、省空间"列为产品核心优势之一，这正是镀膜设备集成中的实际需求。
镀膜工艺中，真空计长期处于蒸镀材料气氛中，传感器污染是常见问题。CC-10 的冷阴极规结构坚固，且传感器清洁简便，采用简单结构设计，便于维护人员定期清理。这有助于延长设备使用寿命，降低停机时间。
CC-10 配备3点设定点（1点独立、2点共común），接点容量为 DC50V、0.12A，可直接用于系统控制，例如触发阀门开关或镀膜起始信号。同时标配 RS-485 数字通信，支持模拟输出（10V F.S. 对数或复合输出），便于接入镀膜设备的 PLC 或上位机系统。
此外，产品符合 CE、RoHS 标准，对于出口欧洲的镀膜设备制造商而言，这是一个不可忽视的合规优势。
| 工艺阶段 | 真空区间 | CC-10 的作用 |
|---|---|---|
| 粗抽 | 大气压 ～ 1Pa | 晶体规精确监测，判断高真空阀开启时机 |
| 高真空抽气 | 1Pa ～ 10⁻⁵Pa | 冷阴极规接管，连续显示压力下降曲线 |
| 镀膜过程 | 10⁻³Pa ～ 10⁻⁵Pa | 实时压力监控，配合设定点控制镀膜起始 |
| 超高真空工艺 | 10⁻⁵Pa ～ 10⁻⁷Pa | 冷阴极规覆盖，满足精密光学镀膜需求 |
| 设备维护 | — | 传感器可清洁，烘烤温度最高150°C |
页面推荐的“真空蒸着装置"和“光学薄膜生成装置"正是 CC-10 最直接的应用场景。无论是间歇式蒸镀设备还是连续式光学镀膜产线，CC-10 都能以单台设备完成全流程压力测量。
法兰选择：提供 NW25 和 ICF70 两种法兰，需根据设备接口匹配；
电源：DC 22～26V，最大8W，若使用交流电需另配 AC 适配器（选件）；
烘烤：最高150°C，但必须拆下电路部分，否则可能损坏电子元件；
工作温度：0～50°C，需确保设备环境温度在此范围内；
重量：NW25 约840g，ICF70 约1060g，安装时需考虑支撑。
CC-10 的核心价值，在于用一台一体化设备替代了传统“晶体规+冷阴极规+独立控制器"的组合，实现了从大气压到超高真空的连续、自动、免切换测量。对于真空蒸镀与光学镀膜领域而言，它同时解决了测量连续性、设备空间、配线复杂度、维护便利性四个实际问题。在镀膜设备日益追求紧凑化、智能化、高可靠性的趋势下，CC-10 这类宽量程复合真空计，正在成为越来越多设备制造商和工艺工程师的优先选择。
