红外线灯加热装置在铁电薄膜的晶体退火上的运用

发布日期：2021-08-26      浏览次数：756

红外线灯加热装置在铁电薄膜的晶体退火上的运用



MILA-5000系列可以进行高速加热/冷却和清洁加热，这是红外金像炉的特点。它可以在自由气氛中加热，并且带有集成温度控制器和变量的紧凑和廉价大气室. 红外线灯加热装置.
可通过USB连接在个人电脑上进行加热操作, 数据易于管理。

用途

• 铁电薄膜的晶体退火

• 离子注入后的扩散退火、氧化膜形成退火

• Si、复合晶片烧结、合金化处理

• 玻璃基板均温仪

• 热循环、热冲击、热疲劳试验

• 升温脱附试验用加热炉

• 催化效果试验




特征

• 选择任何气氛，如真空、气体、气流、气氛

• 精确的温度控制

• 桌面和紧凑的设计

• 您可以轻松设置温度程序并从计算机输入外部信号。

• 可以在个人电脑上显示加热过程中的温度数据。

规格

模型	MILA-5000-PF （均热型）	MILA-5000-PN （高温型）	MILA-5000UHV （高温/高真空型）
温度范围	室温～800℃	室温～1200℃
样品尺寸	方形 20mm x 厚度 2mm
加热气氛	在空气中、真空中、惰性气体中		在空气中，在高真空中，在惰性气体中
极限真空度	6.5Pa（RP *1使用，常温空载）		10 -4 Pa（TMP *1使用，常温空载）

* 1 真空排气装置是一个选项
* 2 加热温度因被加热物体的红外线反射/吸收、热容量和材料而异。