台式离线光谱干涉测厚仪FOS介绍

发布日期：2022-02-18      浏览次数：809

台式离线光谱干涉测厚仪FOS介绍



适用于光学薄膜和透明涂膜

模型	FOS
测量方法	非接触式/光谱干涉仪
测量对象	电子、光学用透明平滑膜、多层膜
测量原理	光谱干涉仪

产品特点

• 实现高测量重复性（± 0.01 μm 或更小，取决于对象和测量条件）

• 不易受温度变化的影响

• 可以制造用于研究和检查的离线型和制造过程中使用的在线型。

• 反射型允许从薄膜的一侧测量

• 只能测量透明涂膜层（取决于测量条件）

产品规格

测量厚度	1 至 50 μm（用于薄材料）、10 至 150 μm（用于厚材料）
测量长度	50-5000 毫米
测量间距	1 毫米 ~
小显示值	0.001 微米
电源电压	AC100 伏 50/60 赫兹
工作温度限制	5～45℃（测量时温度变化在1℃以内）
湿度	35-80%（无冷凝）
测量区域	φ0.6毫米
测量间隙	约 30 毫米