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膜厚测量系统

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更新日期:2021-06-16

简要描述:

日本filmetrics膜厚测量系统F20
一种行业标准、低价、多功能的台式薄膜厚度测量系统,已在全球安装了 5,000 多台。它可用于从研发到制造现场在线测量的广泛应用。

膜厚测量系统
类型数字式测量范围1

日本filmetrics膜厚测量系统F20

一种行业标准、低价、多功能的台式薄膜厚度测量系统,已在全球安装了 5,000 多台。它可用于从研发到制造现场在线测量的广泛应用。
F20基于光学干涉法可在1秒左右轻松测量透明或半透明薄膜的膜厚、折射率和消光系数。
它还支持多点在线测量,并支持RS-232C和TCP/IP等外部通讯,因此可以通过PLC或上位机进行控制。

主要特点

  • 支持广泛的膜厚范围(1 nm 至 250 μm)
  • 支持宽波长范围(190nm 至 1700nm)
  • 强大的膜厚分析
  • 光学常数分析(折射率/消光系数)
  • 紧凑的外壳
  • 支持在线测量

日本filmetrics膜厚测量系统F20

主要应用

平板单元间隙、聚酰亚胺、ITO、AR膜、
各种光学膜等。
半导体抗蚀剂、氧化膜、氮化膜、非晶/多晶硅等
光学镀膜防反射膜、硬涂层等
薄膜太阳能电池CdTe、CIGS、非晶硅等
砷化铝镓(AlGaAs)、磷化镓(GaP)等
医疗的钝化、药物涂层等

产品阵容

模型F20-UVF20F20-近红外F20-EXRF20-UVX
测量波长范围190 – 1100nm380 – 1050nm950 – 1700nm380 – 1700nm190 – 1700nm
膜厚测量范围1nm – 40μm15nm – 70μm100nm – 250μm15nm – 250μm1nm – 250μm
准确性*± 0.2% 薄膜厚度± 0.4% 薄膜厚度± 0.2% 薄膜厚度
1纳米2纳米3纳米2纳米1纳米
测量光斑直径支持高达1.5 毫米或 0.5 毫米
最小 0.1 毫米(可选)
光源

氘·

卤素

卤素

氘·

卤素

* Filmometry 提供的测量 Si 基板上的 SiO2 膜时器件主体的精度。

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