
搭载 KJTD 自研HIS3-HF 超宽带高频超声发射接收主机,通过 PVDF 高分子高频水浸探头向静电卡盘陶瓷基体发射 MHz 级高频超声波;
超声波穿过氧化铝陶瓷介质,在陶瓷 - 金属电极、陶瓷 - 水冷基板、粘接界面、内部缺陷处产生反射回波;
6 轴高精度运动平台全域扫描采集回波幅值、相位、时延数据;
专用 MURAI 图像处理算法合成 B 扫描断面图、C 扫描平面云图,直观呈现缺陷位置、面积、深度、分层状态,全程无损不损伤高价值静电卡盘工件。
脉冲发射电压:空载 - 200V,窄脉冲激励,近表面检测盲区极小;
工作带宽:10MHz~125MHz 高频适配,适配陶瓷薄壁、薄层电极检测;
重复频率(PRF)最高 2kHz,高速扫描保障产能;
增益调节:0~80dB 连续可调,适配厚陶瓷基体与薄层界面差异化检测。
直线轴:X=500mm、Y=400mm、Z=300mm,可覆盖 12/18/300mm 全尺寸晶圆用静电卡盘;
旋转轴 R:工作台转盘 φ300mm,θ1±110°、θ2±45°,异形圆弧型卡盘、环形卡盘适配;
定位重复精度:±2μm,微米级缺陷定位,匹配半导体精密质检要求。
工业工控机 + Windows 专业检测软件,实时同步显示B 扫描(深度剖面)+C 扫描(平面全域);
KJTD 独1家MURAI 智能缺陷成像算法:支持二值化、2 色、16 阶、256 阶彩色梯度成像,缺陷边界锐化,区分粘接弱结合、完1全剥离、内部气孔、微裂纹、电极断线空洞;
原始超声波形存储、缺陷尺寸自动测算、厚度云图、缺陷面积统计、检测报告一键导出;
最大采样点数 4000 万点 / 单次扫描,高密度成像无细节丢失。
20MHz/35MHz:厚壁陶瓷基体、基板焊接层检测;
80MHz/100MHz/125MHz:表层介电层、薄膜电极、近表面微剥离、微米级气孔检测。
陶瓷本体缺陷检测
氧化铝陶瓷烧结气孔、烧结微裂纹、边角磕碰暗裂、内部杂质团聚,规避真空热循环下陶瓷炸裂风险。
电极层完整性检测
卡盘内部钨 / 钼金属电极图案断线、电极空洞、电极与陶瓷介质层剥离,判断高压静电加载均匀性。
层间粘接界面检测(核心用途)
陶瓷层与金属底座、水冷结构粘接层局部脱粘、整面分层、胶层气泡,是静电卡盘老化失效最主要诱因。
水冷腔体密封性检测
内置水冷流道侧壁壁厚缺陷、流道焊接微气孔、水冷层界面渗水隐患预判。
返修 / 再生卡盘复检
卡盘表面研磨翻新后,检测内部是否产生隐性层间应力开裂,判定是否可二次上机使用。
必须纯水耦合检测,超薄陶瓷(<0.3mm)近表面盲区需搭配超高频探头补偿;
无法检测完1全密闭金属屏蔽内层缺陷,适配陶瓷外露结构静电卡盘。
静电卡盘制造商出厂全检
陶瓷烧结后半成品检测、电极烧结后检测、总成粘接完成终检,分级良品 / 返工品 / 报废品。
半导体设备厂商来料 IQC 检验
刻蚀机、薄膜设备原厂卡盘入库前质量核验,规避不良部件装机。
Fab 工厂卡盘运维失效分析
产线异常(晶圆翘曲、静电吸附异常、腔体打火)拆机后,用 SDS-34000 逆向定位内部缺陷根因。
二手卡盘翻新再生验证
旧卡盘翻新修复后,超声成像验证修复界面粘接质量,评估上机使用寿命。
精密陶瓷结构件拓展检测
陶瓷吸盘、陶瓷真空吸盘、陶瓷绝缘基座、异种金属陶瓷封接件通用无损检测。
同定位日系设备:奥林巴斯 C-SAM 超声扫描显微镜、日立高新超声探伤设备;
国产对标:超声扫描显微镜 C-SAM 水浸检测系统;
SDS-34000 差异化:半导体陶瓷专项算法、六轴大行程工作台、HIS 系列高频超声主机信噪比更强,在厚陶瓷多层复合卡盘稳定性更优。